INMIGRACIÓN

UN TOTAL DE 500 EXPERTOS SE REÚNEN EN BARCELONA EN EL 32º CONGRESO INTERNACIONAL DE MICRO Y NANOINGENIERÍA DEL CSIC

MADRID
SERVIMEDIA

El Consejo Superior de Investigaciones Científicas (CSIC) reunirá en Barcelona, hasta el próximo jueves, a 500 expertos de 42 países, en el marco de la celebración del 32º Congreso Internacional de Micro y Nanoingeniería, referencia mundial en el campo de la litografía y la nanofabricación.

El encuentro, que se celebra en España por primera vez, se desarrolla en el World Trade Center Barcelona, según informó hoy el CSIC.

El programa de este simposio internacional incluye un total de 117 ponencias, divididas en 13 áreas temáticas. Entre los conferenciantes se encuentran el experto en nanofabricación de la Universidad de Berkeley (EEUU) Jeff Bokor; el profesor de la Universidad de Cornell (EEUU) Harold Craigead, o el especialista en las aplicaciones de la nanotecnología a la biología y a la medicina.

El mundo de la empresa tendrá una fuerte representación, aportando un 40% de los participantes. Entre ellos, destaca el responsable de las aplicaciones de nanotecnología en la multinacional informática Hewlett Packard, Stanley Williams, que también pronunciará una conferencia.

El congreso, organizado por el Centro Nacional de Microelectrónica del CSIC, será inaugurado hoy por la directora general de Investigación, Violeta Demonte; el director general de Investigación de la Generalitat de Cataluña, Xavier Testar, y el rector de la Universidad Autónoma de Barcelona, Lluís Ferrer, entre otras autoridades.

Según explica el CSIC, desde los años 50 y 60, la reducción de dimensiones ha sido una constante en la búsqueda de mayores capacidades de industrialización en el campo de la microelectrónica, lo que ha llevado a esta disciplina a aproximarse a medidas equivalentes a una millonésima parte de un milímetro, es decir, a la nanométrica.

(SERVIMEDIA)
18 Sep 2006
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